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用此種方式進行氧化時,存在周期性陽極和陰極過程。陽極過程中,鋁合金表面成膜的同時,作為第二相的CuA12被部分溶解:在陰極過程中,氧化膜停止成長,并在第二相上優(yōu)先發(fā)生析氫和金屬沉積,膜孔內(nèi)積聚的熱量隨之散失。 王慧等利用分階段升壓,在高電流密度高電壓下,制得了較高厚度和硬度的銀白色硬鋁氧化膜,實驗組在對鋁及其合金電化學(xué)沉積陶瓷膜的研究中,采用有機梭酸為主鹽,添加一定添加劑組成復(fù)合電解液,在高電壓和電。 但電源設(shè)備投資較大,且電源波形對膜層性能影響較大,單向方波脈沖電源脈沖須率和占空比對膜層性能都有影響,氧化過程峰值電流密度比較大,一般要達10-18A/dm2,氧化時間也要嚴(yán)格控制,這些因素都限制了此工藝的進一步推廣。 鋁卷鋁板廠家采用以硼酸為主鹽,通過添加成膜促進劑和添加劑組成復(fù)合電解液,在較低的電壓下,對硬鋁合金進行氧化著色一體化處理,能在硬鋁合金表而一層一定厚度和硬度且具有良好外觀的防護裝飾性氧化膜層,進一步拓寬了氧化著色的市場前景。
瓷質(zhì)陽極氧化又稱仿釉氧化,是一種由鉻酸或等陽極氧化衍生的一種特殊氧化方法。利用彩涂鋁卷及其合金在電解液中生成陽極氧化膜的同時,一些灰色物質(zhì)吸附在氧化膜中,從而厚度達6-205m、均勻、光滑以及有光澤不的類似瓷釉和搪瓷色澤的氧化膜。 這些方法都存在著一定缺陷,欽法工藝管理困難,成本昂貴;混合酸法則含有強污染的Cr6+離子,在應(yīng)用推廣方面都受到一定的限制.成本較低、工藝簡單且環(huán)境友好的氧化工藝成為必然的選擇.韓夏云等在瓷質(zhì)氧化工藝中添加SnSO4等添加劑,一步法就了淡的瓷質(zhì)氧化膜層,降低了生產(chǎn)成本。 目前應(yīng)用廣的有欽法、鉻酸法、混合酸法、卡爾拉法、雷諾法等。朱立群等研究了鋁合金瓷質(zhì)陽極氧化膜表面染色、封閉一步處理工藝,得到的膜層具有良好的耐磨、耐蝕性和裝飾性能。采用新工藝對鋁材料進行處理,使其達到瓷質(zhì)效果來取代的瓷質(zhì)氧化工藝,更是研究者的追求。 如采用后處理的方式達到瓷質(zhì)效果,在普通法氧化之后,經(jīng)過電化學(xué)砂面處理和化學(xué)拋光即可類似于瓷質(zhì)氧化膜,能克服欽法、錯鹽法和混酸法等不足之處,這些研究都具有一定的價值。本嚴(yán)格遵循相關(guān)法律法規(guī)規(guī)定,絡(luò),如有請告知。
各色系電解液組成如下:a)、系列:6-8g/L,促進劑5-10g/Lb)、灰色系列:硼酸30-40g/L,促進劑5-10g/L,添加劑A0.5-2.0g/Lc)、香檳色系列:磺基水楊酸60-70g/L,添加劑B5-8g/L,Na2WO40.5-1-0g/L研究出一種適合硬鋁合金陽極氧化處理的工藝。 攪拌對膜層性能有一定影響,和灰色系列采用弱攪拌,香檳色系列則采用強攪拌。將硬鋁合金(202置于由硼酸等組成的復(fù)合電解液中,采用恒電壓氧化,可在其表面形成一層深灰色氧化膜層,該膜層均勻,富有陶瓷光澤,具有較好的硬度和耐腐蝕性能。 工藝研究表明,前處理對氧化影響較大,物理方法前處理對成膜不利,一般采用化學(xué)處理方式;氧氣溫度要控制在在25℃以下;氧化峰值電流越大,膜層越厚;X射線能(EDS)測試表明,膜層主要組成元素為,同時含有少量P,S和C,沒有檢測到Cu元素。 X射線衍射(XRD)相分析表明,膜層主要呈非晶態(tài);表面和截面掃描電鏡分析表明,膜層表面呈多孔狀,孔徑約為20nm;孔壁伸向基底,但不垂直于基底;孔壁不連續(xù),像是由細(xì)小顆粒堆積而成。電化學(xué)研究和SEM分析表明,電解液組分對膜層性能影響較大,只有在三組分共同作用下,才能形成理想膜層。點擊查看鑫合鋁業(yè)(懷化市鶴城區(qū)分公司)的【產(chǎn)品相冊庫】以及我們的【產(chǎn)品視頻庫】
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