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另一方面,位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)主要是在強(qiáng)度較低的鋁基體相中進(jìn)行,分布于鋁基體相上的高強(qiáng)度的第二相粒子則是位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的主要物。因此,位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)過(guò)程中遇到第二相粒子時(shí),或者借助Orowan機(jī)制繞過(guò)這些第二相粒子,或者直接切割過(guò)這些第二相粒子,其結(jié)果是導(dǎo)致滑移面上發(fā)生局部強(qiáng)化,使位錯(cuò)的進(jìn)一步滑移困難。 綜上所述,位錯(cuò)之間、位錯(cuò)與第二相之問(wèn)以及位錯(cuò)與晶界或亞晶界之間的交互作用均會(huì)對(duì)位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生強(qiáng)烈的阻礙作用,這就使得在疲勞變形過(guò)程中,必須增大外加載荷才能維持應(yīng)變恒定,導(dǎo)致循環(huán)應(yīng)力增加,即發(fā)生循環(huán)應(yīng)化。 外加總應(yīng)變幅越大,使合金發(fā)生疲勞變形所需要的應(yīng)力也越大,能夠發(fā)生塑性變形的晶粒數(shù)目越多,同時(shí)每個(gè)晶粒中可以開(kāi)動(dòng)的滑移系數(shù)目也增多,因此位錯(cuò)增殖的速率和位錯(cuò)之間以及位錯(cuò)與析出相粒子之間發(fā)生交互作用的幾率也隨之增大,顯然,循環(huán)應(yīng)化也易于發(fā)生。 在位錯(cuò)不斷增殖的同時(shí),也可以發(fā)生位錯(cuò)的湮沒(méi),這實(shí)際上相當(dāng)于發(fā)生一種位錯(cuò)回復(fù)過(guò)程,它可以通過(guò)異 位錯(cuò)在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中彼此相遇并相互抵消而實(shí)現(xiàn),其結(jié)果是導(dǎo)致疲勞變形過(guò)程中位錯(cuò)滑移阻力下降,從而使得位錯(cuò)滑移所需外加應(yīng)力降低,即產(chǎn)生所謂的軟化效應(yīng)。
當(dāng)再轉(zhuǎn)入下一陽(yáng)極過(guò)程時(shí),第二相CuA12就較少溶解或不被濟(jì)解,而氧化膜則繼續(xù)增厚。這樣就可以析氧量和鋁合金中銅組分的溶解量,陽(yáng)極效率和允許使用的電流密度上限,使膜層快速成長(zhǎng)且不會(huì)過(guò)熱。本嚴(yán)格遵循相關(guān)法律法規(guī)規(guī)定,絡(luò),如有請(qǐng)告知。 采用控制電位法對(duì)合金鋁卷進(jìn)行陽(yáng)極氧化,電解液組成為表2.2中所列系列。在30s內(nèi)將氧化電壓從ov線性變化到設(shè)置電壓并保持試驗(yàn)結(jié)束。圖2.2,2.3分別示出了氧化過(guò)程中典型的槽壓、電流密度隨時(shí)間的變化曲線。根據(jù)氧化電流密度隨時(shí)問(wèn)的變化曲線可大致將成膜過(guò)程分為三個(gè)階段。 階段:電流隨電壓迅速增加階段,此時(shí)鋁表而迅速生成一層淺灰色膜層,該膜致密而均勻,具有很高的電阻。該階段可認(rèn)為是合金鋁卷初始成膜階段,所經(jīng)歷時(shí)間約為30s;第段陽(yáng)極氧化電流密度由峰優(yōu)迅速下降.膜的顏色由淺變深,厚度迅速增加階段。 此階段可認(rèn)為是氧化膜的快速形成期,所經(jīng)歷時(shí)間約為5min;第蘭階段,電流密度隨時(shí)間下降階段,此階段氧化膜增加速度,生長(zhǎng)與溶解接衡,成膜過(guò)程基本結(jié)束,電流密度終達(dá)到1一2A/d㎡。本嚴(yán)格遵循相關(guān)法律法規(guī)規(guī)定,絡(luò),如有請(qǐng)告知。
目前甘南瑪曲鑫合鋁業(yè)有限公司生產(chǎn)的 鋁板產(chǎn)品遠(yuǎn)銷國(guó)內(nèi)各大省市,以質(zhì)量穩(wěn)定、價(jià)格優(yōu)惠、 鋁板產(chǎn)品過(guò)硬贏得了廣大客戶的一致好評(píng)。真誠(chéng)希望與老客戶繼續(xù)合作,與新客戶建立關(guān)系--攜手并進(jìn),共創(chuàng)輝煌。
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