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工業(yè)上氧化一般采用的交直流疊加電解方式。由表可知,常用的陽極氧化的溫度范圍也不廣,槽壓相對較高,所以,研究各種添加劑改善氧化工藝顯得很重要。Vrublevsky等同樣利用二次氧化法,研究了氧化膜的生長過程。 隨著納米納米科技的興起,納米材料備成為非常熱門的研究方向,其中模板聚合是主要合成方法之一。鋁氧化膜由于其高規(guī)則型,孔徑可控性,制備工藝簡單等優(yōu)點成為聚合的模板.Masuda實驗組有采用預(yù)處理的方法制備了一些高度有序的陽極氧化鋁模板.本嚴格遵循相關(guān)法律法規(guī)規(guī)定,絡(luò),如有請告知。 鉻酸陽極氧化是早發(fā)明的陽極氧化方法,指的是鋁卷生產(chǎn)廠家在含有3%-10%的鉻酸電解液中通以直流電,在一定條件下進行陽極氧化處理。鉻酸陽極氧化得到的膜層比要薄,通常厚度只有2∽5m,膜層較軟,但彈性高,耐磨性較差。 鉻酸氧化膜一般不,從灰白色到深灰色或彩虹色。鉻酸氧化膜結(jié)構(gòu)與陽極氧化膜不同,其孔隙致密呈樹枝狀結(jié)構(gòu),無需封閉就可以使用。雖然,鉻酸陽極氧化成本較高,電能消耗也較大,電解液廢水處理很困難,但由于鉻酸氧化膜具有良好的耐蝕性、無需著色等優(yōu)點,在有些只需要耐蝕性而對膜層厚度要求不高的場所常用。
鋁卷廠家生產(chǎn)的硬磁盤毛料與基片除罐身料外,鋁卷軋制廠的另一種典型產(chǎn)品是計算機硬磁盤毛料與基片(harddiskblanksandsubstrates)。磁盤車間是的,高度潔凈的,由原來的廠改造而成。鋁卷廠的磁盤毛料與基片品質(zhì)了全用戶的信賴,不但占有的國內(nèi)市場,而且市場的占有率高達60%。 鋁卷軋制廠生產(chǎn)磁盤毛料直徑有140mm,90mm,45mm,35mm等多種,用兩臺壓力為3MN壓力機落料。小毛料的厚度為1.9-2.1mm,大毛料的厚度為4mm。目前,該廠的毛料產(chǎn)量約為2億片每年。磁盤基片車間有十幾臺精密磨床,將基片磨到所需的粗糙度。 在處理基片上一層NiP膜作為底層后,再均勻地涂一層磁性膜。研究中心出了一種含有Cu或Zn的磁盤合金KS5D86。該合金有優(yōu)異的表面處理性能,可均勻形成吸附力很強的NiP薄膜,在上了廣泛的應(yīng)用。它有很強的抗沖壓力,在個人計算機與計算機磁盤中有著大量的應(yīng)用。 可作為硬磁盤基片的材料還有玻璃、欽、碳素等,但鋁合金由于其優(yōu)異的性能,從開始應(yīng)用的那天起至今仍在硬磁盤領(lǐng)域占有統(tǒng)治地位。這些性能是:無磁性;良好地可切削性;可長期保持表面光潔度,以維持低的漂浮高度(flyingheight);密度低,能適應(yīng)高速;材料成本也低。
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稀土元素與鋁原子半徑差為22-41%,故在平衡凝固條件下,稀土元素在鋁中不可能有大的固溶度,La,Ce,Pr,Nd等輕稀土元素在鋁中的溶解度很小(0.05wt.%),Y族元素要高一些,尤其是Se和Y,創(chuàng)門在鋁中的溶解度要比輕稀土高數(shù)倍,因此可能在鋁中起固溶強化作用。 根據(jù)Hume-Rothery規(guī)則,溶劑與溶質(zhì)的原子尺寸差別若超過14-15%,其溶解度必定有限。而在實際鑄造條件下,冷卻速度較快,金屬液均為非平衡狀態(tài)下結(jié)晶,稀土在鋁中產(chǎn)生擴展固溶,處于過飽和狀態(tài),而且冷卻速度越大,過飽和度也隨之增大,因此,稀土元素在鋁合金中的固溶強化作用是不能忽視的。 尤其是隨著快速凝固的發(fā)展,在鋁合金中可的溶解度超過平衡溶解度幾倍至幾十倍的過飽和固溶體,因此稀土元素在鋁合金中的應(yīng)用前景十分廣闊。通過金相法或電阻法的測定,單一稀土元素在鋁中的固溶度因溫度的不同而不同,一般隨著溫度的升高而增大。 而且多種稀土元素的同時加入,也可能對其中單一稀土元素的固溶度產(chǎn)生影響。本嚴格遵循相關(guān)法律法規(guī)規(guī)定,絡(luò),如有請告知。我們立即。并且在此:本所有頁面上的化用詞與功能性用詞全部失效,不做賠付理由;僅是為了給客戶提供更多相關(guān)介紹,不存在不良動機,希望各位消費者理解。
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