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電化學沉積陶瓷膜在難氧化鋁合金的研究方面取得了一些進展,但仍存在很多限制因素,如電源設(shè)備投資大,氧化電流大,氧化時間較難控制等。并詳細研究了電解工藝參數(shù)對膜層性能的影響,同時通過SEM,XRD,EDS等表面分析分析和研究了膜層的形貌、成份和結(jié)構(gòu)。 研究工作在電化學沉積陶瓷膜基礎(chǔ)上,保留了膜層優(yōu)異的性能,克服了其在電源設(shè)備、自動控制及能耗成本方面的不足。施壓方式從較高直流或非連續(xù)陽極電壓變更為濾波直流電壓,電壓也從高達幾百伏降至了50V左右,大大降低了能耗,自動控制及生產(chǎn)性進一步。 本研究選用了、硼酸及磺基水楊酸三種主要氧化電解質(zhì),并配以成膜促進劑和成膜添加劑,組成復合電解液。將鋁及其合金材料置于此種復合電解液中,采用濾波直流電壓方式,對其進行陽極化處理,可在鋁及其合金表面形成一層、灰色或香檳色系的陽極氧化膜。 氧化膜具有優(yōu)異的耐腐蝕性能和裝飾性能,且具備很好的陶瓷光澤。詳細研究了該工藝的陽極氧化特征、電解液組分以及工藝參數(shù)對膜層性能的影響。并采用了電子掃描顯微鏡(SEM)分析了膜層的微觀形貌。本嚴格遵循相關(guān)法律法規(guī)規(guī)定,絡(luò),如有請告知。
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