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在反復(fù)的過程中,晶粒細(xì)化的一般過程為:首先,晶粒被粉碎成一系列具有小角度界面的亞晶,亞晶沿著一定方向拉長(zhǎng)形成帶狀組織,亞晶帶寬度一般為幾微米或亞微米;然后,亞晶被繼續(xù)破壞,開始出現(xiàn)部分具有大角度界面的等軸晶組織;后,亞晶帶消失,顯微組織主要為具有大角度晶界的等軸晶組織。 鋁卷廠家談等通道轉(zhuǎn)角對(duì)對(duì)顯微組織的作用等通道轉(zhuǎn)角對(duì)于純金屬、合金、金屬間化合物等具有顯著的晶粒細(xì)化效果,可以0.2一0.3um尺寸的超細(xì)等軸晶組織。研究各工藝路線對(duì)晶粒細(xì)化的作用應(yīng)綜合考慮剪切面、晶體結(jié)構(gòu)和變形織構(gòu)間相互作用,因?yàn)橄噜彽来伍g剪切面的夾角今隨著工藝路線的不同而變化。 以純鋁為例,路徑Bc比A、C路徑更容易等到等軸晶粒,而路徑A比Bc和A路徑更容易的到大角度晶界,而細(xì)化晶粒的效果是路徑Bc哪。對(duì)于密排六方結(jié)構(gòu)的鎂和鎂合金,由于其主滑移發(fā)生在(000晶面,而在1120晶向是鎂的易滑移方向,所以對(duì)于鎂合金,為快的晶粒細(xì)化效果,應(yīng)采用路徑Bc。 例如,透射電鏡可觀察到等通道轉(zhuǎn)角Al一Cu一0.SZr等軸晶組織的擴(kuò)展厚度消失形貌,而該形貌在退火后消失;這種擴(kuò)展與晶界處存在大量的彈性應(yīng)變和晶體點(diǎn)陣的扭轉(zhuǎn)有關(guān),且測(cè)定了ECAP純Cu的晶界附近的彈性應(yīng)變,結(jié)果表明這。
一般氧化得到的膜層,氧化得到的膜層顯,鉻酸氧化膜則為灰白色等。電壓、電流行為不同,則能改變金屬氧化行為,極大地改變膜層質(zhì)地和外觀,工藝參數(shù)也能因此而改變。在陽極氧化機(jī)理研究中,常規(guī)陽極氧化成膜模型,較常見的有三種模型:場(chǎng)致濟(jì)解模型,臨界電流密度模型及體積理論。 電化學(xué)沉積陶瓷膜過程一般可以分為四個(gè)階段,即沉積初始階段、膜層快速增厚階段、膜層增長(zhǎng)階段、膜層沉積一濟(jì)解平衡階段。認(rèn)為是在化學(xué)、電化學(xué)及界面焦耳熱的聯(lián)合作用下,鋁/電解質(zhì)濟(jì)液界面形成陰離子凝聚物顆粒在陽極表面沉積、濃縮、高溫脫水和快速冷卻,形成具有特殊結(jié)構(gòu)和性能的非晶態(tài)類陶瓷膜。 總之,鋁及其合金在由成膜土鹽、成膜促進(jìn)劑、成膜添加劑組成的復(fù)合電解液中形成的氧化膜層在成膜過程、膜層結(jié)構(gòu)等方面都與普通陽極氧化存在著差異,同樣與電化學(xué)沉積陶瓷股也存在不同。因此,很有必要對(duì)鋁及其合金氧化著色成膜過程進(jìn)行分析和探討。 合金鋁卷廠家選用了灰色氧化著色體系進(jìn)行研究,綜合常規(guī)陽極氧化和電化學(xué)沉積陶瓷膜研究成果,通過分析陽極氧化特性曲線來解析成膜過程,并進(jìn)一步通過分析鋁金屬在硼酸、促進(jìn)劑、添加劑等三個(gè)不同體系中伏安特性曲線以及形成膜層的顯微結(jié)構(gòu),對(duì)復(fù)合電解液各組分在成膜過程的作用及成膜機(jī)理作初步探討。
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