OC廢氣處理設備從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

作為大氣污染的重要來源，工業(yè)廢氣的高校治理尤為重要。由于生產(chǎn)的工藝不同，工業(yè)廢氣產(chǎn)生的污染物種類也不同，不同污染物種類應采用不同的處理工藝。目前，市場上常見的工業(yè)廢氣治理技術主要有：干法脫硫、濕法脫硫、物理/化學吸收法、煙氣脫硝、稀釋法、堿液中和法等等, 由于使用不同的吸收劑可獲得不同的副產(chǎn)物而加以利用，因此濕法脫硫是各國研究多的方法。由于工業(yè)廢氣的成分越來越復雜，單一的廢氣處理技術方法很難達到理想的處理效果。業(yè)內人士認為，綜合兩種或兩種以上處理技術，以及占地空間小、處理效率高的設備將受到市場關注。 資料顯示，治理惡臭廢氣的核心技術是靜電等離子廢氣治理技術，輔助技術是酸堿洗滌技術和生物膜過濾技術。靜電等離子技術是靜電技術與等離子技術的完美結合的復合技術，將靜電技術的吸附和凝聚特性與等離子技術的荷電和裂解特性有機組合，形成了靜電等離子技術的四大技術優(yōu)勢：荷電、裂解、吸附和凝聚，而廢氣的凈化就是這四種特性共同作用完成的。

催化燃燒廢氣處理設備。解吸后的吸收劑經(jīng)過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應的工藝調整。 催化燃燒廢氣處理設備 根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度，等離子體通常可以分為高溫等離子體和低溫等離子體（包子體和冷等離子體）。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學平衡狀態(tài)，它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學非平衡狀態(tài)，各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。