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另一方面,位錯運動主要是在強度較低的鋁基體相中進行,分布于鋁基體相上的高強度的第二相粒子則是位錯運動的主要物。因此,位錯運動過程中遇到第二相粒子時,或者借助Orowan機制繞過這些第二相粒子,或者直接切割過這些第二相粒子,其結果是導致滑移面上發(fā)生局部強化,使位錯的進一步滑移困難。 綜上所述,位錯之間、位錯與第二相之問以及位錯與晶界或亞晶界之間的交互作用均會對位錯運動產(chǎn)生強烈的阻礙作用,這就使得在疲勞變形過程中,必須增大外加載荷才能維持應變恒定,導致循環(huán)應力增加,即發(fā)生循環(huán)應化。 外加總應變幅越大,使合金發(fā)生疲勞變形所需要的應力也越大,能夠發(fā)生塑性變形的晶粒數(shù)目越多,同時每個晶粒中可以開動的滑移系數(shù)目也增多,因此位錯增殖的速率和位錯之間以及位錯與析出相粒子之間發(fā)生交互作用的幾率也隨之增大,顯然,循環(huán)應化也易于發(fā)生。 在位錯不斷增殖的同時,也可以發(fā)生位錯的湮沒,這實際上相當于發(fā)生一種位錯回復過程,它可以通過異 位錯在運動過程中彼此相遇并相互抵消而實現(xiàn),其結果是導致疲勞變形過程中位錯滑移阻力下降,從而使得位錯滑移所需外加應力降低,即產(chǎn)生所謂的軟化效應。
在反復的過程中,晶粒細化的一般過程為:首先,晶粒被粉碎成一系列具有小角度界面的亞晶,亞晶沿著一定方向拉長形成帶狀組織,亞晶帶寬度一般為幾微米或亞微米;然后,亞晶被繼續(xù)破壞,開始出現(xiàn)部分具有大角度界面的等軸晶組織;后,亞晶帶消失,顯微組織主要為具有大角度晶界的等軸晶組織。 鋁卷廠家談等通道轉(zhuǎn)角對對顯微組織的作用等通道轉(zhuǎn)角對于純金屬、合金、金屬間化合物等具有顯著的晶粒細化效果,可以0.2一0.3um尺寸的超細等軸晶組織。研究各工藝路線對晶粒細化的作用應綜合考慮剪切面、晶體結構和變形織構間相互作用,因為相鄰道次間剪切面的夾角今隨著工藝路線的不同而變化。 以純鋁為例,路徑Bc比A、C路徑更容易等到等軸晶粒,而路徑A比Bc和A路徑更容易的到大角度晶界,而細化晶粒的效果是路徑Bc哪。對于密排六方結構的鎂和鎂合金,由于其主滑移發(fā)生在(000晶面,而在1120晶向是鎂的易滑移方向,所以對于鎂合金,為快的晶粒細化效果,應采用路徑Bc。 例如,透射電鏡可觀察到等通道轉(zhuǎn)角Al一Cu一0.SZr等軸晶組織的擴展厚度消失形貌,而該形貌在退火后消失;這種擴展與晶界處存在大量的彈性應變和晶體點陣的扭轉(zhuǎn)有關,且測定了ECAP純Cu的晶界附近的彈性應變,結果表明這。
陽極氧化通常是在含有2%-10%的電解液,通以直流電或交流電進行合金鋁卷陽極化處理。由于對氧化膜的溶解作用比較小,所以,的膜層一般較厚,可達6um。氧化的反應機理基本和體系相同,但膜層性能有所差別。 氧化膜呈淡,具有良好的耐光性,硬度、耐磨性和耐蝕性都優(yōu)于膜。但該法成本較高、電耗大,應用受到了一定限制。目前主要用于電氣絕緣、食用鋁質(zhì)器具、日用品、建筑及造船等部門。陽極氧化受電流波形的影響比大,所以,工藝規(guī)范類型也多,幾種典型的工藝規(guī)范如表所示。 目前研究如下:任雅勛在溶液中添加了添加劑,了氧化溫度上限(28℃),降低了氧化電壓(40-60V),且得到的膜層性能也較優(yōu)異.MozalevA研究了鋁在加有NH4F的溶液中的電位一時間曲線,發(fā)現(xiàn)含氟添加物能降低氧化槽壓,但不能氧化效率。 采用二次陽極氧化工藝(re-anong),即在氧化前在溶液中氧化若干分鐘,可以避免零件發(fā)生燒蝕現(xiàn)象,同時還能夠溶液的耐氯離子能力,若在溶液中添加1-5mL/L甲酸,則可以氧化膜中的小白點現(xiàn)象。
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